Hexachlordisilan

Hexachlordisilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der chlorierten Silane.

Strukturformel
Allgemeines
Name	Hexachlordisilan
Andere Namen	1,1,1,2,2,2-Hexachlordisilan Disiliziumhexachlorid HCDS
Summenformel	(SiCl3)2
Kurzbeschreibung	farblose Flüssigkeit
Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 13465-77-5 EG-Nummer 236-704-1 ECHA-InfoCard 100.033.353 PubChem 83497 Wikidata Q15546028
Eigenschaften
Molare Masse	268,89 g·mol−1
Aggregatzustand	flüssig
Dichte	1,562 g·cm−3 (25 °C)
Schmelzpunkt	2,5 °C
Siedepunkt	144–145,5 °C
Brechungsindex	1,475 (20 °C)
Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung Gefahr H- und P-Sätze H: 314 P: 280​‐​305+351+338​‐​310
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa). Brechungsindex: Na-D-Linie, 20 °C

Gewinnung und Darstellung

Hexachlordisilan kann (wie alle Perchlorsilane Si_nCl_2n+2 mit n = 2-6) durch Reaktion von Calciumsilicid mit Chlor bei 230 bis 250 °C gewonnen werden.

$\mathrm {CaSi_{2}+4\ Cl_{2}\longrightarrow Si_{2}Cl_{6}+CaCl_{2}}$

Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Reaktion von Siliciumdichlorid oder Silicium mit Chlor.

$\mathrm {2\ SiCl_{2}+Cl_{2}\longrightarrow Si_{2}Cl_{6}}$

$\mathrm {2\ Si+3\ Cl_{2}\longrightarrow Si_{2}Cl_{6}}$

Eigenschaften

Hexachlordisilan ist eine farblose, an Luft rauchende, hydrolyseempfindliche klare Flüssigkeit.

Verwendung

Ultrahochreines Hexachlordisilan wird in der Halbleiterindustrie für die chemische Gasphasenabscheidung von siliciumhaltigen funktionellen Schichten, bei sehr niedrigen Temperaturen, eingesetzt. Anlagen zur Herstellung stehen zum Beispiel im badischen Rheinfelden.